在未来大约五年的时间里，我们有望实现稳定地生产至少350-130-90-65-40纳米级别的光刻机。正是采用此类工艺制造的微芯片，构成了目前全球生产的绝大多数，并且很可能在明天也是如此。当然，要实现此类计划，只有在国家支持下才有可能，但显然，对于这些重要任务的认识是存在的，因此不会拒绝这种支持
在未来大约五年的时间里，我们有望实现稳定地生产至少350-130-90-65-40纳米级别的光刻机。正是采用此类工艺制造的微芯片，构成了目前全球生产的绝大多数，并且很可能在明天也是如此。当然，要实现此类计划，只有在国家支持下才有可能，但显然，对于这些重要任务的认识是存在的，因此不会拒绝这种支持
