8月4日行业最新消息，国产高端光刻胶实现关键量产突围。
湖北潜江鼎龙股份年产300吨KrF/ArF晶圆光刻胶生产线，今年3月投产之后推进顺利，目前已有8款产品拿到国内头部晶圆厂批量采购订单，两大芯片企业追加近千加仑采购量。

这条产线是国内首条实现全流程自主打通的量产线，覆盖有机合成、高分子制备、提纯精制、成品调配全部环节，光刻胶核心树脂、单体、光酸剂等关键原材料全部自研自产，全链条不再依赖外部供应。

很多人不清楚光刻胶的核心作用，芯片制造好比微观雕刻，光刻机是雕刻刀具，光刻胶就是承载电路图案的核心耗材，缺少它芯片生产完全无法开展。长久以来高端光刻胶市场被日本企业牢牢把控，此前ArF、EUV高端光刻胶国产化率不足1%。

此前日本出台出口管制措施，拉长审批周期、削减供给配额，今年年初我国高端光刻胶对日进口量大幅缩减，意图限制国内先进芯片产业发展。外部限制倒逼国内材料产业加速攻坚，如今这条产线产出的ArF、KrF光刻胶可适配28nm至7nm多类芯片工艺，能够用于存储芯片、逻辑芯片等主流产品制造。
1 成熟制程芯片彻底摆脱海外耗材制约，供应链自主权大幅提升；
2 7nm先进工艺完成耗材配套铺垫，产能储备充足；
3 海外垄断限制的影响力大幅削弱，产业链安全进一步加固。

客观来讲，5nm及以下工艺所用的EUV光刻胶仍处于研发攻坚阶段，和全球顶尖技术仍存在差距，国产化之路依旧任重道远。但KrF、ArF光刻胶作为芯片制造用量最大的核心材料，此番实现自主量产落地，是国内半导体材料赛道里程碑式的突破。

外部越是技术封锁，国内产业链自主研发的脚步就越快。从各类战略资源到半导体核心耗材，一个个被卡脖子的环节逐步攻克，产业链短板持续补齐，国产芯片产业长期向好的底气越来越足。