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半导体设备!中微公司 2026 年一季报数据前瞻预测

据中微公司公告,将于2026年4月28日发布一季报。现综合公司2025 年业绩数据、管理层指引、行业高景气度及近期机构预

据中微公司公告,将于2026年4月28日发布一季报。现综合公司2025 年业绩数据、管理层指引、行业高景气度及近期机构预测,综合分析推演一季报数据。

一、业绩推演基础:2025 年高基数与强劲动能

2025 年业绩回顾:奠定高增长基石

营收:123.85 亿元,同比增长36.6%。

净利润:约21.11亿元,同比增长30.7%。

核心驱动力:刻蚀设备收入 98.32 亿元(+35.1%),薄膜沉积设备收入 5.06 亿元(+224.2%)。公司成功从刻蚀龙头向平台化设备商迈进。

行业与公司积极信号:

行业周期向上:受 AI 算力需求爆发、存储芯片复苏及国产替代加速驱动,全球半导体设备资本开支进入上行通道,预计至少持续至 2027 年。

公司订单饱满:管理层此前透露,在手订单充裕,排期已至 2026 年下半年。特别是 ICP 刻蚀设备订单量已超过传统优势的 CCP 设备,显示新产品线增长动能强劲。

技术持续突破:CCP/ICP 刻蚀在 3nm 及更先进制程获得广泛应用;90:1 极高深宽比刻蚀机完成开发;薄膜设备(尤其是 LPCVD/ALD)在客户端验证顺利,开始贡献显著收入。

二、2026 年第一季度核心业绩数据推测

结合多家券商(如交银国际、华兴证券、申万宏源等)在 2026 年 3 月底至 4 月初发布的预测,以及行业一季度通常的交付节奏,我们对中微公司一季报做出如下推测:

营业收入:

预测区间:32.5亿元至 45.0 亿元。

中位预期:约38-40亿元。

同比增长:预计在50% 至106% 之间(对比2025 年 Q1 营收约 21.7 亿元)。高增长主要源于:

刻蚀设备稳定输出:作为基本盘,在先进逻辑(3nm/5nm)和存储(200 层以上 3D NAND)产线持续放量。

薄膜设备加速交付:2025年新签 7.56 亿元订单将在 2026 年逐步确认收入,一季度是重要交付期。

行业景气度传导:晶圆厂产能利用率高企,设备交付、安装及验收节奏加快。

归母净利润:

由于规模效应显现、高毛利产品(如高端 ICP、薄膜设备)占比提升,净利润增速有望高于营收增速。

预测区间:5.5亿元至 8.0亿元。

中位预期:约6.5-7.0亿元。

同比增长:有望实现60% 至130%以上的高增长(对比2025 年 Q1净利润约 3.48 亿元)。

三、分业务板块表现推测

刻蚀设备(核心支柱):

CCP 刻蚀:在高端介质刻蚀市场地位稳固,收入稳健增长。

ICP 刻蚀:将成为增长主要引擎。随着在更多逻辑和存储工艺中渗透,且在手订单充沛,ICP 收入增速预计将显著快于 CCP,占比持续提升。

薄膜沉积设备(第二增长曲线):

预计延续爆发式增长。LPCVD/ALD 设备在 3D NAND 和先进逻辑产线的验证通过后,开始批量交付。一季度该业务收入有望达到或超过去年全年水平(5.06 亿元)的相当比例,同比增速预计在 200% 以上。

所有迹象表明,公司正站在技术突破、产品放量、行业景气的三重共振点上。预计一季度将交出一份营收与利润双双高增的靓丽答卷,进一步巩固其在国内半导体设备领域的龙头地位,并为全年业绩高增长奠定坚实基础。投资者应重点关注其ICP 刻蚀与薄膜沉积设备的收入确认情况,这两大引擎的动能将是决定公司长期成长空间的核心变量。