欧美依靠EUV高端光刻机限制我国高端芯片发展，ASML的设备壁垒源于海量精密零部件、供应链与长期工艺积累。国内正在自研极紫外光刻机，我国拥有完整工业体系，相关领域具备技术底子，主要欠缺工程化经验与时间。一旦EUV实现从0到1突破，芯片制造瓶颈将被打通，带动AI、算力、机器人等产业发展，依托完备制造业，建成自主可控的完整高科技产业链。余承东所说的“国内研发”，核心意义在于自主攻关。
欧美依靠EUV高端光刻机限制我国高端芯片发展，ASML的设备壁垒源于海量精密零部件、供应链与长期工艺积累。国内正在自研极紫外光刻机，我国拥有完整工业体系，相关领域具备技术底子，主要欠缺工程化经验与时间。一旦EUV实现从0到1突破，芯片制造瓶颈将被打通，带动AI、算力、机器人等产业发展，依托完备制造业，建成自主可控的完整高科技产业链。余承东所说的“国内研发”，核心意义在于自主攻关。
