专家称中国在工业领域的成就被低估烽火问鼎计划

2025年5月我国大陆地区完成支撑7纳米工艺的ARF的DUV光刻机、实现稳定生产。

ArF 193nm 干式光刻机

原生分辨率≤65nm

套刻精度≤8nm

原生直做65nm、45nm 成熟工艺

加多重曝光（多次叠加刻蚀）

可以向下兼容做到32nm → 28nm → 22nm → 14nm → 7nm ​​​