荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 ASML这话不是故意泼冷水，实在是被美国卡得太死。EUV光刻机号称“人类工业皇冠上的明珠”，整个机器包含10万多个零部件，荷兰自己根本造不全，其中最核心的光源系统、精密导轨，不少都是美国企业提供的。 美国从2022年就出台限制令，禁止ASML向中国出口EUV光刻机，哪怕是已经签订的订单，也被逼着取消，ASML就算想和中国合作赚大钱，也不敢违抗美国的命令，毕竟美国既是它的重要技术供应方，也是核心市场之一，得罪不起。 中国这边可没被这种封锁打垮，反而越挫越勇，每年在半导体设备研发上的投入都在稳步增加，增速常年保持在20%以上。 2023年中国半导体设备研发投入达到186亿元，2024年直接冲到225亿元，一年就增加了39亿元，增速刚好达到21.5%，而且这些钱全用在刀刃上，不搞虚的，全投入到光刻机、光刻胶、工件台这些核心领域。 要知道，研发光刻机就是烧钱的活，一台EUV光刻机造价高达1.2亿美元，中国每年砸这么多钱，就是不想被人卡脖子。 上海微电子就是最典型的例子，这家企业默默深耕光刻机领域十几年，之前一直被国外垄断压得抬不起头，现在靠着持续的研发投入，已经成功造出了28nm的DUV光刻机，虽然比EUV落后一代，但已经能满足国内中低端芯片的生产需求。 而且它的研发投入每年都在增长，2024年投入达到32亿元，比2023年增长23%，远超行业平均水平，目前已经在研发14nm的DUV光刻机，距离EUV的差距正在一步步缩小。 不光是整机，核心零部件的研发也在突破，华卓精科研发的双工件台，是光刻机的核心部件之一，之前只有ASML能自主生产，中国只能依赖进口，现在华卓精科已经实现了国产化，而且性能不比ASML的差，价格却便宜了三成。 还有光刻胶，容大感光、南大光电这些企业，已经突破了中高端光刻胶技术，打破了日本企业的垄断，2024年国内中高端光刻胶自给率达到35%，比2022年提高了18个百分点，这些都是研发投入堆出来的成果。 美国本以为靠着封锁EUV，就能让中国芯片产业停滞不前，没想到中国转头就搞自主研发，每年砸钱搞突破，增速还这么快。ASML心里其实也清楚，中国的研发实力不容小觑，只要持续投入，早晚能搞出自己的EUV光刻机，到时候它就会失去中国这个庞大的市场。 现在中国的研发投入还在增加，相关企业也在不断突破，虽然目前获取EUV确实困难，但按照这个势头，用不了多少年，中国就能摆脱对国外光刻机的依赖，到时候ASML可能还得反过来求着和中国合作。