荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 ASML这话其实没说错，毕竟背后有美国在硬逼，不是它不想卖，是不敢卖，美国为了保住自己的芯片霸权，连带着荷兰一起绑架，不光EUV不让卖，连中端的DUV光刻机都在层层加码限制，到后来甚至连设备的售后维护都想卡咱们的脖子。 要知道，以前中国可是ASML的大客户，连续好几个季度都是它全球最大的销售市场，最高的时候占比快一半，现在硬生生被美国逼得下调中国市场预期，自己市值也蒸发了几百亿欧元，纯属被美国坑惨了。 但它算错了一点，中国人最不怕的就是被卡脖子，你越不让我们拿到，我们就越要自己搞出来。所谓的研发投入每年增速超20%，不是嘴上说说，而是真金白银砸进去的，过去一年里，国内半导体企业的研发总支出就超过3000亿，单是设备领域的投入就涨了不少，这个增速比很多行业都要高，而且还在稳步提升。 不像有些国家，光喊口号不做事，咱们是实打实把钱花在刀刃上，从核心部件到配套产业，一点都不偷懒。 上海微电子就是最典型的例子，这家企业闷头干了十几年，硬生生把28nm的DUV光刻机搞了出来，而且已经完成了客户端的全流程验证，国产化率超过85%，良率能稳定在90%以上，早就具备量产能力了。 别小看这28nm，咱们日常用的手机、家电、汽车电子，大多都需要这种制程的芯片，以前全靠进口设备，现在咱们自己就能造，还能给海思、比亚迪这些大客户供货，订单都追加了好几轮。更厉害的是，他们还在攻关14nm的DUV光刻机，已经进入工程化验证阶段，距离量产越来越近。 中芯国际也没闲着，没有EUV光刻机，就用上海微电子的DUV搞多重曝光技术，硬生生把7nm工艺的芯片给做了出来，虽然成本比直接用EUV高一点，但至少打破了国外的垄断，不用再看别人脸色。 而且国内的配套产业也在跟着发力，南大光电已经实现了ArF光刻胶的量产，产能达到每年50吨，刚好能配套28nm工艺的需求，以前这种光刻胶全靠进口，现在咱们自己就能生产，再也不用被卡脖子。 可能有人觉得，咱们搞的DUV和ASML的EUV还有差距，这话没错，但差距正在一点点缩小。中科院已经攻克了EUV的核心光源技术，完成了13.5nm波长的闭环验证，功率也迈过了百瓦门槛，虽然离量产还有段距离，但至少打开了突破口，不再是站在门外干瞪眼。 还有中微半导体，搞出来的等离子刻蚀机精度达到0.02纳米，相当于硅原子直径的十分之一，能满足5nm及更先进制程的需求，技术水平已经跻身全球第一梯队，国内95%以上的刻蚀应用场景都能用。 美国和ASML大概没想到，他们的封锁反而成了咱们研发的加速器，投入的每一分钱都在慢慢见效。现在国内半导体设备的订单同比涨了70%多，高校里关于EUV光源的专项课题就立了三十多个，整个产业链都在往自研上靠。 ASML自己也承认，对华出口限制其实损害的是西方自身的利益，德国汽车行业急需的成熟制程芯片，欧洲自己都满足不了一半，还得靠中国产能来补缺口，阻止别人生产自己急需的东西，本身就是件很荒唐的事。 咱们现在不跟他们硬刚，就闷头搞研发，每年保持20%以上的投入增速，相信用不了多久，就能打破他们的封锁，造出属于咱们自己的EUV光刻机。