荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 2018年那会儿，中芯国际下了单要买EUV，本来计划2019年就能到货。钱那是真金白银付出去的，结果机器呢？一直没影儿。 不是造不出来，也不是客户变卦不要了，而是美国那边一路施压，最后硬生生把荷兰政府和ASML都给推到了墙角，动弹不得。 最初卡的是高端EUV，后来这口子是越收越紧，连部分的DUV设备也被盯上了。 有人可能会问，ASML就不能反抗吗？还真不能。一方面，它依赖美国的核心技术和零部件，一旦违背美国的意愿，很可能会被断供，到时候自己都没法生产光刻机、 另一方面，荷兰作为美国的盟友，在外交和经济上都有不少依赖，根本不敢公开和美国唱反调。 ASML的前CEO曾公开批评美国的禁令，说把中国排除在外，只会逼着中国全力搞自主研发，但批评归批评，公司终究还是要遵守各国的出口管制规则，只能眼睁睁看着已经收到的货款，没法交付对应的设备。 中芯国际的遭遇，其实就是中国半导体产业被“卡脖子”的一个缩影。付了钱却拿不到设备，不仅损失了巨额资金，更耽误了先进制程的研发进度，让我们在高端芯片领域和国际巨头的差距又拉大了一些。 但美国人显然打错了算盘，他们以为靠技术封锁就能困住中国，却忘了中国人最擅长的就是“越是被限制，越要拼命突破”。 就像ASML说的，中国从来没有放弃过，反而在研发投入上不断加码，每年的增速都超过20%。根据集微网的统计，2025年前三季度，A股228家半导体上市公司合计研发投入就达到了680.22亿元，其中北方华创、中微公司等龙头企业，研发投入都超过10亿元，还有不少企业的研发增速超过50%。 这些钱没有白花，它们被用在光刻机核心技术、零部件研发上，一点点填补我们和国际顶尖水平的差距。 可能有人会觉得，我们现在离EUV还很远，ASML的CEO甚至说过，中国在光刻技术上还落后全球顶尖水平10到15年。 但大家别忘了，研发从来都不是一蹴而就的，尤其是光刻机这种集合了光学、机械、电子等多领域顶尖技术的“国之重器”，更是需要时间和耐心。 现在上海微电子已经取得了不小的突破，它推出的28nm浸没式DUV光刻机，不仅完成了多轮工艺验证，国产化率还突破了85%，良率也达到了85%以上，已经进入批量交付阶段，这就是我们一步步突围的证明。 美国的封锁还在不断升级，从最初的EUV禁运，到后来把DUV光刻机也纳入管制，甚至连已经交付的存量设备，都不让维修、不让更换备件，试图彻底切断我们的发展路径。但越是这样，我们的决心就越坚定。 国家大基金三期投入3440亿元，明确将光刻机列为重点支持方向；上海微电子也在推进战略重组，集中力量攻坚EUV等前沿技术，整个半导体产业链都在协同发力，从设备、材料到设计、制造，每一个环节都在努力突破。 其实说到底，美国的技术封锁，虽然短期内给我们带来了很多困难，但从长远来看，也倒逼我们放弃了“依赖进口”的幻想，真正静下心来搞自主研发。 ASML垄断EUV的时代或许还会持续一段时间，但我们相信，只要保持这份研发的韧劲，持续加码投入，不断突破核心技术，总有一天，我们能造出属于自己的EUV光刻机，彻底打破西方的技术垄断。 到那时候，我们再也不用看别人的脸色，不用为了一台设备被卡脖子，中国半导体产业也能真正实现自主可控。