荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。   麻烦看官老爷们右上角点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持!   ASML的高管曾大言不惭地放过狠话，认定在美国布下的天罗地网下，中国企业想要拿到EUV光刻机简直是痴人说梦。   美国不仅自己下手狠，还硬拽着盟友建起一堵密不透风的高墙，连稍微先进点的DUV设备都不让卖，甚至连以前买的机器出了故障都不准修，这招釜底抽薪的意图极为明显，就是要强行掐断我们高端芯片制造的命脉。   芯片是现代工业的灵魂所在，不论是你手里拿着的智能手机，还是事关国家安危的国防装备，全指望这颗小小的硅片，一旦高端芯片断了供，科技产业就会面临休克的危险。   过往几年的企业断供事件早就给了我们血淋淋的教训，退让换不来施舍，妥协只会跌入万丈深渊。面对这种要把人逼上绝路的封锁，咱们绝对不可能认怂。   既然买不到，那就自己造，中国根本没有停留在口头抗议上，而是直接启动了不计成本的反击战，全国上下在光刻机及相关关键领域的研发投入，每年都稳稳保持着超过20%的惊人增速。   这绝不是一串冷冰冰的数字，而是实打实的突围引擎，国家层面直接出手，大基金三期一口气砸下三千四百多亿元，精准灌溉那些卡脖子的核心设备和基础材料。   在禁令彻底封死之前，国内企业更是抢抓稍纵即逝的时间窗口，狂砸上百亿欧元扫货，把能买到的设备统统搬回国，这波极限操作稳住了现有的芯片生产线，为后续的自主攻坚抢出了最宝贵的战略缓冲期。   光刻机被称为工业皇冠上的明珠，一台机器十万多个精密零件，西方笃定咱们拼凑不出来，但我们的科研团队偏偏不信邪，硬是把这尊庞然大物大卸八块，逐个击破。   作为光刻机心脏的光源系统，哈工大团队采用放电等离子体技术，成功让13.5纳米的EUV光源亮了起来，虽说距离国际商用顶尖水平还有一段路要赶，但这结结实实地跨越了从无到有的物理鸿沟。   再看控制精度的双工件台，这相当于机器的手脚，国内企业已经能把移动精度死死卡在0.12纳米，连一根头发丝直径的几万分之一都不到。   从高精度的物镜系统到曾经被国外死死垄断的光刻胶，我们的国产化替代步伐正在一路狂飙。   上海微电子的28纳米浸没式光刻机早就拿到了上亿元的真金白银订单，开始在客户产线上大显身手，迈向高端的冲锋号一刻也没有停歇。   一条路走不通，我们就另辟蹊径，绝不把命运全押在一个牌桌上，工程师们用现有的DUV设备，通过极度复杂的多次曝光工艺，硬是靠着“笨办法”敲开了7纳米芯片量产的大门，直接粉碎了没有EUV就造不出高端芯片的傲慢偏见。   全国各地的新技术路线更是全面开花，压印设备的线宽已经突破10纳米并交付使用，电子束光刻的精度直逼物理极限，还有科研团队正瞄准全新的大科学装置路线，试图在更下一代的技术道口完成超车。   到了今天，本土半导体设备的整体国产化率已经飙升过半，某些核心环节甚至拿下了六成以上的江山。   如今这场科技博弈的攻守之势正在发生根本性的扭转，西方费尽心机打造的铁幕，不仅没能困死我们，反而逼出了一个拥有完整自主产业链的强劲对手。   当中国亮出稀土出口管控的底牌，那些高高在上的国际巨头才猛然惊醒，高端设备的供应链早已深陷你中有我、我中有你的博弈中。   如今西方企业眼睁睁看着自己曾经独霸的市场份额，被物美价廉、响应神速的中国设备一口口吞噬。   对中国来说，从前的封锁只是一块试金石，它试出了我们的硬骨头，也加速了旧有科技霸权的瓦解。   对此你有什么看法？欢迎在评论区留言讨论！说说大家的看法！