荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。 中国半导体这条路走得不容易，但也没停下脚步。ASML CEO克里斯托夫·富凯多次公开讲，美国持续施压，荷兰政府跟着收紧出口许可，导致EUV设备基本进不了中国。2018年中芯国际订的那台EUV，本来2019年该到货，结果美国从那时候就开始干预，荷兰当局一步步撤销许可，到现在那台机器还卡在中间。 ASML一台EUV由全球上百家供应商拼凑，超过10万个零件，周期长、利润高，但中国这个曾经占全球销售额近一半的市场，现在份额大幅下滑。2025年中国还占ASML销售额33%，但公司自己预测2026年会掉到20%左右，主要因为先进设备禁售，DUV部分也受影响。富凯直言，这些限制起初打国家安全牌，现在更多是经济考量，还会刺激中国自己搞研发。 中国这边，国家层面研发经费强度保持高位，全社会投入持续增长，大基金三期重点砸钱到芯片设备和材料上，规模数百亿。地方也给政策红利，比如上海临港给光刻企业税收优惠和补贴。这些钱不是白投，哈工大在放电等离子体EUV光源上拿下13.5纳米波长突破，光源是整机的核心动力。上海微电子DUV领域推进快，90纳米ArF光刻机批量交付，28纳米浸没式完成验证并中标项目。 零部件国产化也没闲着，福晶科技激光晶体全球份额大，茂莱光学28纳米DUV物镜替代率高，南大光电ArF光刻胶量产良率稳，浙大量子“羲之”电子束光刻机测试中精度0.6纳米。这些进展加起来，虽然离完整EUV系统还有距离，但差距在一步步缩小。外部压力反而成了加速器，研发投入增速保持20%以上，体现出产业韧性。 这不是买不买得到的问题，而是能不能自己造出来的问题。ASML垄断EUV多年，但中国没坐等，现在多个环节都有实打实突破。未来谁能掌握主动权，还真不好说。